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鈦及鈦合金新的表面處理工藝

鈦及鈦合金由于密度小、強(qiáng)度高、耐熱耐腐蝕性能優(yōu)異而廣泛地應(yīng)用于航空航天、石油化工、造船等部分。具有較高的比強(qiáng)度、良好的耐蝕性及耐高溫性(熔點(diǎn)超過(guò)1 650 ℃),并且可呈+2、+3、+4價(jià)態(tài)的氧化態(tài),部分可在溶液中以離子態(tài)存在,因此可利用鈦的這些性質(zhì)和特性進(jìn)行表面處理。www.nmware.com科研工作者利用鈦的性質(zhì)和特性進(jìn)行表面處理工藝研究時(shí),獲得了三種新的工藝,分別如下。(1)利用氧化還原離子對(duì)TiN/TiF62-制備金屬納米粒子鍍層。(2)通過(guò)等離子滲碳處理在鈦金屬表面涂覆碳薄膜,以提高其耐蝕性。(3)通過(guò)化學(xué)方法,利用氧化還原離子對(duì)Ti3+/Ti4+制備高純鎳鍍層。
 
接下來(lái)將分別對(duì)這三種工藝進(jìn)行簡(jiǎn)要介紹。
 
1.氮化鈦在含氟離子的水溶液中放置時(shí),TiN中的Ti會(huì)溶解生成TiF62-,所發(fā)生的反應(yīng)如公式(1)和公式(2)所示。
TiN+6HF=TiF62-+NH4++2H++e-(pH<3.0)  (1)
TiN+6F-+4H+=TiF62-+NH4++e-(pH>3.0)  (2)
利用該反應(yīng)放出的電子可以還原比Ti電位還高的Pd2+,這樣就可以在TiN上析出Pd。研究了在不同pH值的鍍液中以及不同溫度下制備的Pd納米粒子鍍層。結(jié)果表明,當(dāng)鍍槽溫度為70 ℃、鍍液pH為5.2時(shí),所得到的Pd鍍層的粒子最小,分散性最好。TEM測(cè)試結(jié)果顯示,在TiN上形成了粒徑約為50 nm的Pd納米粒子。由于TiN的電導(dǎo)率低,不能用電解法在其表面鍍上金屬,而以上這種利用氧化還原離子對(duì)TiN/TiF62-的電化學(xué)鍍方法不失為最好的選擇。
 
2.鎂電池作為新一代二次電池,具有壽命長(zhǎng)、無(wú)污染、體積小、容量大等優(yōu)點(diǎn),極具發(fā)展性。通常,鎂電池的電解液是以格利雅試劑(鎂烷基)為基體的溶液,這種電解液中存在著高濃度氯離子,易使電極材料腐蝕,因此,要使鎂電池能夠真正得到商業(yè)應(yīng)用,必須尋找到一種成本低且性能穩(wěn)定的電極材料。為此,通過(guò)等離子滲碳處理(碳源為甲烷或丙烯)在金屬鈦表面涂覆了一層玻璃態(tài)碳薄膜,從而使鈦在電解液中的耐蝕性得到了提高。由于鈦的碳吸收能低,其表面可形成厚度約數(shù)微米的玻璃態(tài)碳薄膜,具有優(yōu)異的耐蝕性。
 
3.利用化學(xué)方法制備鎳鍍層時(shí)需要使用各種還原劑,若選用次亞磷酸鈉(NaH2PO2)作為還原劑,則會(huì)獲得P含量為10%~12%的鎳鍍層,該鍍層具有優(yōu)良的非磁穩(wěn)定性,可用作硬盤的鍍層基底材料;若選用硼氫化鈉(NaBH4)作為還原劑時(shí),可獲得非晶態(tài)高強(qiáng)鍍鎳層,并且含有一定量的B。而要獲得純凈的鍍鎳層,就必須避免還原劑中的成分滲入鍍膜中,為此使用了氧化還原離子對(duì)Ti3+/Ti4+,即在采用化學(xué)法制備鎳鍍層的過(guò)程中,3價(jià)鈦和4價(jià)都以離子形態(tài)存在,而在鍍液中添加氮基三乙酸或檸檬酸(作為穩(wěn)定劑)后,其中的鎳離子可形成絡(luò)合物。利用這種方法在Cu線上成功制備了厚度約為10 nm的純鎳鍍層。

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